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分子メス 研究内容の紹介
研究内容
放射光などの高エネルギー光子の関与する光化学を主テーマとして、 分子構造や電子状態に関する物性研究と化学反応の研究の両方に重点を置いた以下の研究を行っている。
  1. 固体表面・凝縮系における光化学反応過程
  2. 光励起プロセス技術における基礎過程
  3. 放射光利用技術の開発
1. 固体表面・凝縮系における光化学反応過程
固体表面は、気相と凝縮相の性格を合わせ持っており、そこでの光化学反応過程を調べることにより、 気相反応から凝縮相反応までの移行の過程を調べる。また、固体表面や凝縮系での特異な化学反応を調べその機構を解明する。 その結果に基づいて化学反応制御に関する手がかりを探る。
[光励起・発光の初期過程、光刺激脱離(PSD)反応、サイト・状態選別した光分解反応、分子配向を利用した化学反応の異方性の研究等]
"内殻励起イオン脱離反応"
J. Mass Spectrom. Soc. Jpn., 44, 123-132 (1996).

"Ion Desorption from H2O Chemisorbed on Si(100) by O 1s Electron Excitation at Room Temperature"
J. Chem. Phys., 102, 1422-1431 (1995).

"Inner-Shell Excitation and Site Specific Fragmentation of Poly(Methyl-Methacrylate) Thin-Film"
J. Chem. Phys., 100, 5988-5995 (1994).
2. 光励起プロセス技術における基礎過程
次世代の半導体素子製造技術の一つと考えられている光励起プロセスにおける光化学反応の役割を明らかにし、 その反応機構の解明を試みるとともに、その制御・高効率化のための諸要素を探る。
[直接微細加工(エッチング、薄膜形成)、表面修飾・改質、新機能能物質の開発研究等]
"New Microfabrication Technique on a Submicrometer Scale by Synchrotron Radiation-Excited Etching"
J. Vac. Sci. Technol. B, 13, 2175-2178 (1995).

"Observation of Neutral Products of a Soft X-Ray Stimulated Etching Reaction in the SF6/a-SiO2 Adsorption System"
Chem. Phys. Lett., 217, 131-135 (1994).

"Synchrotron Radiation-Assisted Etching of Si in the Presence of Reactive Species Produced by Microwave Discharge"
J. Vac. Sci. Technol. B, 11, 1890-1894 (1993).
3. 放射光利用技術の開発
放射光を利用した上記の研究を効率的に進めるための、高性能ビームラインの開発、新原理に基づく新しい実験手法の開発研究を行う。
[放射光分光・集光技術、利用実験手法の開発研究等]]
"Photon Stimulated Ion Desorption Studies Using Pulsed Synchrotron Radiation"
Rev. Sci. Instrum, 66, 1474-1476 (1995).

"Construction of Constant-Deviation Constant-Length Spherical Grating Monochromator at UVSOR"
Rev. Sci. Instrum, 66, 2104- 2106 (1995).

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